Акции CVD Equipment Corporation

CVD Equipment Corporation, вместе со своими дочерними предприятиями, разрабатывает, производит и продает оборудование для разработки и производства материалов и покрытий в Соединенных Штатах. Она работает через три сегмента: CVD Equipment, Stainless Design Concepts и CVD Materials. Компания предлагает оборудование для химического осаждения паров, физического транспортирования паров и термических процессов под брендом FirstNano для различных рынков, таких как высокомощная электроника, аэрокосмические передовые материалы для газотурбинных реактивных двигателей и наноматериалы, используемые в батареях, а также полупроводниках, светодиодах, углеродных нанотрубках, нанопроводах, солнечных элементах и других промышленных и исследовательских приложениях; а также системы контроля доставки газов и химикатов высокой чистоты, включая шкафы для хранения газовых цилиндров, индивидуальные системы доставки газов и химикатов, манифольды для газовых и жидкостных клапанов и боксы для изоляции газа для процессов производства полупроводников, аэрокосмической отрасли, солнечных элементов, светодиодов, углеродных нанотрубок, нанопроводов и промышленных приложений. Также она предоставляет продукты, связанные с передовыми материалами и покрытиями, такие как Tantaline — решение для коррозионно-стойкой обработки поверхности; а также услуги и продукты печати MesoPlasma, включая обогреватели, антенны и датчики для аэрокосмической, спутниковой, энергетической, оборонной и других отраслей. Кроме того, компания предлагает печи для отжига, диффузии и низкотемпературного химического осаждения паров; а также стандартные и индивидуально изготовленные кварцевые изделия, используемые в ее оборудовании и других инструментах заказчиков. Компания была основана в 1982 году и имеет штаб-квартиру в Центральном Ислип, штат Нью-Йорк.